成果信息

采用碱性介质下化学作用为主的技术路线，为解决现有酸性浆料存在的七大技术难题，研制出用低粒径分散度、硬度适中、高浓度、易清洗的SiO2水溶胶为磨料的碱性抛光液。可有效降低机械强度，大幅度提高化学机械超精密加工精度和高速率，且简化工艺、降低成本、提高抛光液的商品竞争力，达到高效益。自主合成的微电子专用螯合剂有高达28个能给予电子对的原子, 即有12个氮原子和16个氧原子, 它与金属离子能形成23个五元环，成为一类最稳定螯合物, 它有效地和所有金属离子形成稳定络合物。因为它是胺盐, 在水中溶解度很大，克服了EDTA溶解度小、不稳定的弱点；又克服了二钠盐有碱金属钠离子, 适用于微电子等特点；并且螯合环数也大大增加。利用优先吸附的数学模型有效将新加工表面的高能状态降低为低能状态，使得颗粒等污染物在表面长期控制在易清洗的物理吸附状态（>168小时），而不向难清洗的化学吸附状态转化，并在表面形成保护层，防止污染物的二次吸附，实现了把有害吸附转化为无害吸附，是抛光、清洗工艺中不可缺少的添加剂。)

背景介绍

碱性抛光液与清洗剂及其技术，是新型低排放环保节能清洗技术，综合了电化学氧化与化学活性剂的优势，实现多行业多领域的清洗要求，是未来清洗行业的发展方向之一。)

应用前景

该技术可以应用于要求最高的微电子、光电子等高新技术领域清洗，还可以应用航空、航天、机械、汽车、轻工、化工、石油等30多个领域，数万种产品，应用领域非常广阔，具有良好的市场前景。)